टैंटलम का प्रदर्शन विश्लेषण

टैंटलम का प्रदर्शन विश्लेषण

टैंटलम, एक धात्विक तत्व, मुख्य रूप से टैंटलाइट अयस्क में मौजूद होता है और नाइओबियम के साथ सहजीवी होता है। टैंटलम बहुत कठोर और लचीला है, और इसे पतली पन्नी बनाने के लिए फिलामेंट्स में खींचा जा सकता है। इसका तापीय विस्तार गुणांक बहुत छोटा है। टैंटलम में उत्कृष्ट रासायनिक गुण हैं और यह संक्षारण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी है। ठंड या गर्म परिस्थितियों में कोई फर्क नहीं पड़ता, यह हाइड्रोक्लोरिक एसिड, केंद्रित नाइट्रिक एसिड और "एक्वा रेजिया" पर प्रतिक्रिया नहीं करता है। इसका उपयोग वाष्पीकरण वाहिकाओं आदि को बनाने के लिए किया जा सकता है, और इसका उपयोग इलेक्ट्रॉन ट्यूबों के लिए इलेक्ट्रोड, रेक्टिफायर, इलेक्ट्रोलाइज़र और कैपेसिटर के रूप में भी किया जा सकता है। क्षतिग्रस्त ऊतकों की मरम्मत के लिए पतली चादरें या धागे बनाने के लिए चिकित्सकीय रूप से इसका उपयोग किया जाता है।

टैंटलम में उत्कृष्ट रासायनिक गुण और अत्यधिक उच्च संक्षारण प्रतिरोध भी है। ठंड या गर्म परिस्थितियों में कोई फर्क नहीं पड़ता, यह हाइड्रोक्लोरिक एसिड, केंद्रित नाइट्रिक एसिड और "एक्वा रेजिया" पर प्रतिक्रिया नहीं करता है।

हालाँकि, टैंटलम को गर्म सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड में संक्षारित किया जा सकता है। 150 डिग्री से नीचे, टैंटलम सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड द्वारा संक्षारित नहीं होगा। यह इससे अधिक तापमान पर ही प्रतिक्रिया करेगा। एक वर्ष के लिए 175 डिग्री पर केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड में, संक्षारण की मोटाई 0.0004 मिमी होगी। जब टैंटलम को एक वर्ष के लिए 200 डिग्री पर सल्फ्यूरिक एसिड में भिगोया जाता है, तो सतह परत केवल 0.006 मिमी क्षतिग्रस्त होती है।

250 डिग्री पर, संक्षारण दर बढ़ जाती है, प्रति वर्ष 0.116 मिमी की मोटाई के साथ। 300 डिग्री पर, संक्षारण दर और भी तेज़ है। विसर्जन के 1 वर्ष के बाद, सतह 1.368 मिमी तक संक्षरित हो जाती है। फ्यूमिंग सल्फ्यूरिक एसिड (15% SO3 युक्त) में संक्षारण दर सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड की तुलना में अधिक गंभीर है। इस घोल में एक वर्ष तक 130 डिग्री पर डुबोये रखने के बाद संक्षारित सतह की मोटाई 15.6 मिमी है।

टैंटलम भी उच्च तापमान पर फॉस्फोरिक एसिड द्वारा संक्षारित हो जाएगा, लेकिन यह प्रतिक्रिया आम तौर पर 150 डिग्री से ऊपर होती है। एक वर्ष के लिए 250 डिग्री पर 85% फॉस्फोरिक एसिड में भिगोने के बाद, सतह 20 मिमी तक संक्षारित हो जाएगी। इसके अलावा, टैंटलम हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड और नाइट्रिक एसिड द्वारा संक्षारित हो जाएगा। इसे मिश्रित अम्ल में शीघ्रता से घोला जा सकता है तथा हाइड्रोफ्लोरिक अम्ल में भी घोला जा सकता है।

लेकिन टैंटलम मजबूत क्षार से अधिक डरता है। 110 डिग्री की सांद्रता और 40% की सांद्रता वाले कास्टिक सोडा समाधान में, टैंटलम जल्दी से घुल जाएगा। समान सांद्रता के पोटेशियम हाइड्रॉक्साइड घोल में, यह 100 डिग्री पर जल्दी से घुल जाएगा। उपरोक्त स्थिति को छोड़कर, सामान्य अकार्बनिक लवण आमतौर पर टैंटलम को 150 डिग्री से नीचे संक्षारित नहीं कर सकते हैं।

प्रयोगों से पता चला है कि टैंटलम का सामान्य तापमान पर क्षार समाधान, क्लोरीन गैस, ब्रोमीन पानी, पतला सल्फ्यूरिक एसिड और कई अन्य रसायनों पर कोई प्रभाव नहीं पड़ता है। यह केवल हाइड्रोफ्लोरिक एसिड और गर्म सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड की क्रिया के तहत प्रतिक्रिया करता है। धातुओं में ऐसी स्थितियाँ अपेक्षाकृत दुर्लभ हैं।